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簡要描述：蔡司Sigma 300/500系列是擁有高品質(zhì)成像和分析功能的場發(fā)射掃描電鏡。它收益于久經(jīng)考 驗的Gemini電子光學(xué)技術(shù)。Sigma300/500可以配備多種探 測器，可以滿足不同的應(yīng)用需求：顆粒物，表面構(gòu)型及納米結(jié)構(gòu)等樣品的成像。利用Sigma 300/500直觀的4 步工作流程，可以使得日常所需的成 像和分析的效率得到提高。
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高清晰度背散射電子探測器，在所有真空模式下， 可對各類樣品進行出色的低電壓組份成像
智能并加速工作流程
Sigma 300的4 步工作流程可控制Sigma 的所有功能?？煽焖佾@取圖像，同時，節(jié)約在培訓(xùn)上的時間。.
導(dǎo)航您的樣品，并為其設(shè)置的成像條件。
在樣品上定義感興趣區(qū)域，可自動實現(xiàn)在多個樣品上采集圖像。
獲得可關(guān)聯(lián)的可視化結(jié)果。
*進的分析系統(tǒng)
n 在樣品上定義感興趣區(qū)域，可自動實現(xiàn)在多個樣品上采集圖像。
n 獲得可關(guān)聯(lián)的可視化結(jié)果。
n 掃描電鏡與要素分析相結(jié)合：
Sigma 300頂尖的EDS 幾何設(shè)計能夠增強分析能力，尤其是對電子束敏感的樣品。
n 可實現(xiàn)在之前一半的束流下得到分析數(shù)據(jù)，同時測試速度比之前快一倍。
n 8.5mm 的工作距離和35 度的出射角，可得到?jīng)]有陰影區(qū)域的分析結(jié)果靈活的探測手段獲取高分辨率的圖像。
靈活的探測手段獲取高分辨率的圖像
n 使用最新探測器技術(shù)描繪您的所有樣本。
n 使用新型的ETSE 二次電子探測器及用于高真空狀態(tài)下的InLense 二次電子探測器可以獲得高分辨率的形貌信息。
n VPSE 和C2D探測器在各種壓力模式下都可以獲取清晰的圖像。
n 使用環(huán)形STEM 探測器可以獲取高分辨率的傳送圖像。
n 使用四通道BSD探測器和釔鋁石榴石晶體探測器研究成分。
技術(shù)參數(shù)
主要技術(shù)參數(shù) | |||
蔡司Sigma 300 | 蔡司Sigma 500 | ||
電子槍 | 肖特基場發(fā)射 | 肖特基場發(fā)射 | |
15kV 對應(yīng)分辨率 | 1.0 nm | 0.8 nm | |
1kV 對應(yīng)分辨率 | 1.6 nm | 1.4 nm | |
背散射電子探測器類型 | HD BSD | HD BSD | |
最大掃描速度 | 50 ns/pixel | 50 ns/pixel | |
加速電壓 | 0.02 – 30 kV | 0.02 – 30 kV | |
放大倍率 | 10× – 1,000,000 × | 10× – 1,000,000 × | |
探針束流 | 3pA -20nA (選 20nA ) 6pA -100nA (選 100nA) | 3pA -20nA (選 20nA ) 6pA -100nA (選 100nA) | |
圖像存儲分辨率 | 32 k × 24 k pixels | ||
接口 | 12 | ||
能譜接口 | 2 ( 1 個 EDS 專用及誒口) 3 (2 個 EDS 專用及誒口) | ||
高真空模式 | Yes | Yes | |
樣品倉尺寸 |
365 mm (?) x 275 mm (h) | 2 – 133 Pa 358 mm (?) x 270.5 mm (h) | |
樣品臺種類 | 全電動5軸樣品臺 可選配全電動5軸樣品臺 | 全電動5軸優(yōu)中心樣品臺 | |
X 方向移動范圍 | 125mm | 130mm | 125mm |
Y 方向移動范圍 | 125mm | 130mm | 125mm |
Z 方向移動范圍 | 50mm | 50mm | 50mm |
傾斜范圍 | -10 to +90 degrees | -3 to +70 degrees -10 to +90 degrees | |
旋轉(zhuǎn)范圍 | 360° Continuous | 360° Continuous 360° Continuous | |
最大樣品載重 | Up to 0.5 kg all axes, up to 2kg without tilt, up to 5 kg on XY platform only Up to 0.5 kg | Up to 0.5 kg all axes, up to 2kg without tilt, up to 5 kg on XY platform only | |
最大樣品尺寸 | 250 mm (?) x 145 mm (h), With the ZTR module removed; At the analytical working distance | ||
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